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PCE-22 紫外臭氧清洗機是一款可加熱型的紫外臭氧清洗機，其加熱溫度可達150℃。此款設備可用于清洗各種基片，為制作高質量的薄膜打好基礎。特別適合移除光刻膠，改善表面潤濕性，清洗SEM &TEM，紫外對聚合物改性等。

PCE-44 小型紫外臭氧清洗機，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段，特別適合清除一些有機化合物。紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光：185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌粞酰?54nm可以破壞化合物中的鍵

PCE-44-LD 小型紫外臭氧清洗機，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段，特別適合清除一些有機化合物。紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光：185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌粞酰?54nm可以破壞化合物中的鍵

PCE-6V 小型等離子清洗機集成了RF等離子體發(fā)生技術、計算機控制技術、軟件編程技術，采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內(nèi)*清洗掉有機污染物，清洗程度可達到分子級。另外，其樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現(xiàn)離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。

PDC-36G 等離子清洗機是一種緊湊型、低成本的等離子清洗機。使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級有機物污染。在射頻電源的作用下，去除速率大每分鐘10納米。在單晶材料外延薄膜生長以前進行預處理，對生長具有顯著的作用 。

PCE-80 8.5英寸等離子清洗機是一款較大型的等離子清洗機，等離子腔體為 8.5 “dia x 12““L的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續(xù)可調(diào)節(jié)。此款設備主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質（如親水和疏水性等）。對于基片的清洗以及薄膜處理此款設備是較為理想的實驗幫手。